在二次精練裝置中使用的鎂鉻磚根據其生產工藝的不同分為五種，分別是直接結合鎂鉻磚、再結合鎂鉻磚、矽酸鹽結合鎂鉻磚、半再結合鎂鉻磚和預反應鎂鉻磚。其中以直接結合鎂鉻磚在使用中最為廣泛。

直接結合鎂鉻磚

與其他四種鎂鉻磚都有什麼不同？小編從以下幾點帶您分析：

1、原料

直接結合鎂鉻磚採用高純鎂砂和鉻礦製成的鎂鉻砂為主要原料。

再結合鎂鉻磚又叫電熔再結合鎂鉻磚，採用菱鎂礦（或輕燒鎂粉）和鉻礦製成的合成電熔鎂鉻熔塊為原料。

矽酸鹽結合鎂鉻磚採用燒結鎂砂和一般耐火級鉻礦為原料。

半再結合鎂鉻磚以部分電熔合成鎂鉻砂為原料，摻加部分鉻礦和鎂砂或燒結合成鎂鉻料。

預反應鎂鉻磚採用輕紗鎂粉和鉻鐵礦為原料，煅燒成預反應燒結料。

2、效能特點

直接結合鎂鉻磚高溫機械強度高、抗渣性好、高溫體積穩定性好。

再結合鎂鉻磚具有較高的高溫強度和體積穩定性，耐侵蝕，抗沖刷，抗熱震性介於直接結合磚和電熔磚之間。

矽酸鹽結合鎂鉻磚的高溫抗侵蝕效能較其他鎂鉻磚較差，強度較低。

半再結合鎂鉻磚製品組織結構緻密，氣孔率低，高溫強度高，抗侵蝕能力強，抗熱震效能好。

預反應鎂鉻磚製品組織結構緻密，成分均勻，氣孔率低，高溫強度大，抗渣性好，抗熱震性好。

3、應用

不同的鎂鉻磚根據其不同的效能特點，在使用上也有很大的差別。

直接結合鎂鉻磚主要用於RH、DH真空脫氣裝置，VOD爐、AOD爐等爐外精練裝置。

再結合鎂鉻磚使用與RH、DH真空脫氣室、AOD風嘴區、COD渣線部位。

矽酸鹽結合鎂鉻磚在爐外精練裝置中主要用於非直接接觸熔體的內襯部位。

半再結合鎂鉻磚用於RH和DH真空脫氣浸漬管、VOD爐、LF爐、AOD爐等爐外精料裝置的渣線部位。

預反應鎂鉻磚用於VOD爐、LF爐等精練裝置的渣線部位。