多弧離子鍍膜有什麼特點



真空離子鍍膜裝置

起源於20世紀60年代D。M。Mattox提出的理論，且在當時開始有了對應的實驗；直到1971年，Chamber等發表電子束離子鍍膜技術；而反應蒸鍍（ARE）技術則是在1972年的Bunshah報告所指出，此時產生了TiC及TiN等超硬質的薄膜型別；同樣是在1972年，Smith和Moley在鍍膜工藝中採用了空心陰極技術。到了20世紀80年代，我國離子鍍終於達到工業應用的水準，相繼出現了真空多弧離子鍍及電弧放電型離子鍍等鍍膜工藝。

振華多弧離子鍍膜機

真空離子鍍的整個工作過程是：首先先將真空室抽真空，待至真空環境壓力抽至4X10⁻³Pa之上，需要把高壓電源接通，在基材與蒸發器間構建一個低壓放電氣體的等離子低溫區域。用5000V直流負高壓連線基材電極，從而形成陰極的輝光放電。惰性氣體離子是在負輝光區附近產生的，其進入陰極暗區被電場加速並對基材表面進行轟擊，這是一個清洗過程，之後就進入鍍膜過程，透過轟擊加熱的作用，氣化一些鍍料，等離子區內進入原子，與電子及惰性氣體離子產生碰撞，也有少部分發生離化，對於這些離化後的離子擁有高能量會對薄膜表面進行轟擊，一定程度上會改善膜層質量。

真空離子鍍的原理是：在真空室中，利用氣體的放電現象或蒸發物質的離化部分，在蒸發物質離子或氣體離子的轟擊作用下，同時沉積這些蒸發物或其反應物在基材上得到薄膜。

廣東振華真空離子鍍膜裝置

把真空蒸發、等離子體技術與氣體輝光放電這三項技術結合起來，不單是使膜層質量明顯改進了，而且還讓薄膜應用範圍擴大了。該工藝的優點是繞射性強、薄膜附著力好、可鍍膜材多樣等。離子鍍原理是由D。M。Mattox首次提出的，離子鍍有很多種類，較為常見的是蒸發加熱方式這一類，有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等各種加熱方式的離子鍍膜裝置。