2017年梁孟松博士加入了中芯國際，率領團隊刻苦攻關後使中芯國際突破14nm晶片製程工藝技術難題、將工藝良品率提升到達到量產標準的95%。N=1、N=2工藝也進展順利

挑戰14nm晶片製程工藝成功後，對我國晶片產業將產生重要影響。

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一、標誌我國晶片製程工藝跟上世界先進水平，可滿足我國70%晶片需求，緩解了我國晶片之“渴”、紓舒了很多企業等芯生產的困擾。

目前，全球領先的7nm、5nm晶片製程工藝唯有臺積電和三星，其他廠商放棄了跟進，70%以上主流的晶片仍是採用10nm以上製程工藝。因為除高階手機或特種需求之外，10nm以上晶片已可滿足普遍的需要。

中芯國際南方廠正式投產首條14nm、產能3。5萬片/月晶圓生產線，已能適應普通需求、滿足我國大部分企業的應用目標。

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同時還積澱了製程更高階晶片的技術基礎、總體提升了我國晶片製程工藝的水平、節約了鉅額進口晶片的外匯，為我國在2025年前完成晶片自給自足率達70%奠定了紮實的基礎。

二、中芯國際仍需進一步提升晶片製程工藝，降低生產成本、提高產品價效比。

中芯國際14nm晶片良品率達到標準後，可能會有新的挑戰。

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因為中芯國際是用深紫外光源的DUV光刻機，透過包括提高解析度、套刻精度等工藝技術實現14nm晶片良品率，耗費的單位時間、生產成本比用13。5nm極紫外光源的EUV光刻機制程同標準晶片要高很多，雖良品率達到量產標準、但價效比上沒有優勢。拿產能彌補後與國外產品競爭的優勢並不明顯，一定條件下還可能處於劣勢。

因為假若一顆14nm芯片價格為100美元，中芯國際生產成本80美元、別人用EUV光刻機生產只要60美元，70美元銷售還有利潤。

其他國家會大幅降低芯片價格進行銷售來佔領市場，甚至可能7nm晶片比中芯國際14nm芯片價格還要低。市場競爭就是如此殘酷。

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這樣的話，中芯國際量產後銷售越多卻利潤不大。所以中芯國際應未雨綢繆，14nm晶片達到量產標準後要充分注重降低生產成本提升產品價效比，提高市場競爭力。

梁孟松博士現今仍留在中芯國際任執行CEO，且7nm、5nm工藝技術巳有所儲備，俟有極紫外光源的EUV光刻機即可投入生產。

那麼相信中國的晶片產業在舉國之力發展下，很快就躋身世界一流水平，而不僅是跟跑者。

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從這一點上看，中芯國際晶片14nm良品率達到標準，對我國晶片產業發展的積極意義是深遠的。