李榮浩，周杰倫 - 默 （Live）

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02：13

未知來源

大家都知道，中國半導體產業鏈之所以不能生產高階晶片的主要原因，就是因為國內市場在製造光刻機方面的技術落後於人。這項關鍵技術被歐美等科技巨頭長期壟斷，而自從美國擅自修改了晶片規則後，華為等中企的晶片之路可謂是“舉步維艱”。

儘管華為擁有海思這樣晶片設計技術一流的團隊，但是沒有高階光刻機，華為海思只能是“望洋興嘆”。再加上臺積電也跟隨老美的腳步，不給華為代工麒麟系列晶片，從而導致華為手機業務一落千丈，至今都沒有緩過來。

也正是因為如此，華為入局光刻機產業就成了大勢所趨。可以說，如果華為真的研發出國產光刻機，那麼中國晶片被“卡脖”的問題就能迎刃而解。

正所謂“理想很豐滿，現實卻很骨感”，目前國內最高階的光刻機僅可達到90nm，很難滿足智慧手機、電腦等行業的需求。雖然EUV光刻機可以生產7nm及以下製程的晶片，但是自主研發的難度也是相當大。要知道，EUV光刻機的零部件就多達10萬個，需要全球5000多家供應商提供，甚至連ASML都曾嘲諷我們，就算把圖紙給中國，我們也造不出先進的EUV光刻機。

不可否認，製造高階光刻機並不是一件容易的事情，單憑一個華為也很難搞出來。其實，早在2016年，華為就開始研發光刻機，而華為也不是孤軍奮戰，包括國望光學、科益虹源、

華卓精科、上海微電子等國內頂尖晶片企業都在負重前行，並投入大量的資金和人才參與光刻機的技術研發。

讓國人感到振奮的是，就在不久前，國家智慧財產權局公佈了一項由華為釋出的新專利，叫做“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”。據悉，這項專利可以有效解決相關技術中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題了，填補了國內半導體領域的空白。

此訊息一出，就有國外媒體表示，華為這是要向歐美科技巨頭的核心技術壟斷正式“宣戰”。要知道，EUV光刻機的關鍵核心技術掌握在荷蘭ASML手中，而ASML又因生產線上採用了大量的美技術和裝置，不得不聽從老美的“建議”，禁止向中國市場出貨先進的EUV光刻機，甚至連DUV光刻機的正常出貨也遇到了“瓶頸”。

事實上，華為並不是只搞了光刻機，其正在全面出擊攻克各種晶片難題。就比如華為還先後釋出了晶片疊加技術和超導量子晶片專利，尤其是晶片疊加技術，可以透過疊加的方式，將兩顆14nm晶片做成相當於7nm晶片效能的高階晶片。

不管怎麼說，華為等中企的晶片之路還非常的漫長，我們和歐美等企業的科技實力仍然有不少的差距。但是國內一家家像華為這樣的企業，燃起的星星之火，難道不值得期待嗎？對此，你們怎麼看？歡迎大家留言點贊分享。

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