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適用於先進半導體制造的隨機性（stochastics）微影圖案誤差測量與控制解決方案企業Fractilia，3/29宣佈推出最新版本的Fractilia自動化測量平臺（FAME），讓半導體晶片廠得以管控因受到隨機性誤差影響甚巨的極紫外光微影...