您現在的位置是：首頁 > 標簽 > 光阻首頁標簽
第4022回：極紫外微影光刻機，阿斯麥半導體蝕刻
除了目前致力於開發的TWINSCAN平臺外，阿斯麥公司還在積極與IBM等半導體公司合作，繼續研發光刻技術，比如極紫外光刻（EUV），用於關鍵尺度在22奈米甚至更低的積體電路製造...
黃光製程從入門到精通｜100問
蝕刻種類：（1） 幹蝕刻（2） 溼蝕刻99、AEI目檢Wafer須檢查哪些專案:答：（1） 正面顏色是否異常及刮傷 （2） 有無缺角及Particle （3）刻號是否正確100、名詞解釋：熱交換器（HEAT EXCHANGER）：將熱能經由...
意識力學之《光論》（十八）
如下圖【鈄射型內折射示意圖，光從低光阻物質射向高光阻物質，光束聚攏，每條波線的“折射角“都不相等，具有“擴大化”傾向】一束光包含若干條光線（即波線），如上圖所示，雖然該束光總體上是向法線方向偏折，但內部的每條光線的“偏折角度“都不同...