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  • 華為提交的 EUV 掃描器專利,能讓中國半導體制造走向何方?

    華為提交的 EUV 掃描器專利,能讓中國半導體制造走向何方?

    華為已提交了一項涵蓋極紫外(EUV)光刻掃描器的專利申請,解決了晶片製造最後一步由極紫外光的微小波長引起的問題...

  • 光刻機為啥這麼難造?比原子彈還稀有,全世界僅兩個國家掌握技術

    正在研發國產光刻機我國光刻機研發面臨的挑戰首先就是我國目前依舊缺乏高效能光刻機制造技術,從光刻機的發展歷程就能看出,它對於工藝節點的要求越來越高...

  • 俄羅斯計劃2028年造出7nm光刻機,不使用EUV技術

    俄羅斯計劃2028年造出7nm光刻機,不使用EUV技術

    之前俄羅斯計劃,採用X射線,進行無掩膜式光刻,來繞開EUV光刻機,實現7nm及以下晶片的製造...

  • MC方案|如何快速準確地測定光刻膠的對比度曲線?

    在顯影步驟之後,使用FR-μ探針顯微光譜儀工具在每個正方形上測量剩餘抗蝕劑膜的厚度(圖1)...

  • 中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?

    但在臺積電推出193奈米浸入式光刻技術之後,ASML第1個積極響應,然後就抓住了這個機會,並在2007年推出了第1臺浸入式光刻機,一舉突破了45奈米的工藝製程,隨後asml在光刻機市場上的市場份額越來越大,雖然後來日本企業成功突破了傳統技術...

  • 用石墨烯打造的碳晶片能繞開光刻機?結局很現實,中科院盡力了

    用石墨烯打造的碳晶片能繞開光刻機?結局很現實,中科院盡力了

    碳基晶片在製造方面與矽基晶片相同,都要運用Fen Fet與SOI技術來實現電流的阻隔,積體電路是唯一途徑,而積體電路的刻制最先進的工藝便是光刻技術了...

  • 生產晶片用的蝕刻機和光刻機有什麼區別?

    生產晶片用的蝕刻機和光刻機有什麼區別?

    (雖然現在最先進的是用等離子蝕刻,但是我們這裡先不說那個,說比較基礎一點兒的原理)所以說製造晶片的基本原理就是利用這兩種物質的性質:在金屬表面覆蓋一層光刻膠,然後用光先把光刻膠侵蝕掉,下一步再用化學物質浸泡,這樣有光刻膠的那部分金屬就不會被...

  • 光刻機售價近10億,外國專家說給中國圖紙都做不出來,如今打臉

    光刻機售價近10億,外國專家說給中國圖紙都做不出來,如今打臉

    ASML目前在全球市場佔據主導地位,中國也只能生產低端光刻機而且與ASML相比差距太大,國內高階光學技術基本上依賴進口,曾經德國工程師說中國想研發光刻機完全不可能,把全部圖紙都給中國都造不出來...

  • 為光刻機添“芯”柴,中科院破冰計算機光刻技術,100%可行性概念

    另外,“基於虛擬邊與雙取樣率畫素化掩模圖形”的快速光學鄰近效應修正技術,配合上海微電子推出的28納米制程光刻機,有望將晶片製程提升到22奈米、16奈米、14奈米...

  • 第4022回:極紫外微影光刻機,阿斯麥半導體蝕刻

    第4022回:極紫外微影光刻機,阿斯麥半導體蝕刻

    除了目前致力於開發的TWINSCAN平臺外,阿斯麥公司還在積極與IBM等半導體公司合作,繼續研發光刻技術,比如極紫外光刻(EUV),用於關鍵尺度在22奈米甚至更低的積體電路製造...

  • 詳解!光刻技術的基本原理-光刻技術的種類-光刻技術流程

    詳解!光刻技術的基本原理-光刻技術的種類-光刻技術流程

    根據維基百科的定義,光刻是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然後透過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上...

  • 華為、高通、蘋果都離不開的光刻機究竟是什麼,一口氣帶你搞懂

    光刻機的工作原理在整個晶片製造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術...

  • LSI的製作工藝流程

    在表面露出的矽氮化膜採用磷酸熱溶液溼法刻蝕(wet-etching)後,進行光刻工序,此後,將形成n溝道MOS三極體的部分用光刻膠覆蓋...

  • 光刻作為製造半導體微圖形工藝核心,國產光刻膠發展現新機?

    光刻是半導體制造關鍵工藝,光刻膠透過曝光顯影實現圖形轉移晶片製造又稱晶圓製造,是透過物理、化學工藝步驟在晶圓表面形成器件,並生成金屬導線將器件相互連線形成積體電路的過程...

  • 蘇大維格公佈最新3D直寫光刻技術實現光刻膠3D形貌可控制備

    蘇大維格公佈最新3D直寫光刻技術實現光刻膠3D形貌可控制備

    蘇大維格透過產學研合作,一直致力於推進 3D 直寫光刻技術開發與應用,解決了多項行業挑戰:大面積微納結構形貌的數字設計,海量資料處理與先進演算法,可達百 Tb 量級資料量海量資料資料壓縮傳輸、高速率光電轉換技術數字光場形成三維形貌的曝光模式...

  • 晶片光刻全過程(清洗預烘塗覆前烘曝光顯影刻蝕去除)

    晶片光刻全過程(清洗預烘塗覆前烘曝光顯影刻蝕去除)

    所謂光刻,根據維基百科的定義,這是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然後透過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上...

  • 光刻機、光刻膠、DUV、EUV,到底是啥玩意

    光刻機、光刻膠、DUV、EUV,到底是啥玩意

    目前ASML公司的EUV的極紫外光光刻機的輸出功率是 250 瓦,要達到這樣的輸出功率,需要0...

  • 年度行業研究 | 晶片“印鈔機”的背後:人類物理的極限探索與大國博弈的必爭之地

    據e公司報道,ASML每年逾10億歐元的研發投入,連續20年才研發出最新一款光刻裝置——EUV光刻機...

  • 你覺得華為有機會完全自主化生產晶片嗎?

    封裝就是把一個大晶圓上的一個個的小晶片切割下來,然後進行電鍍、接通訊號等等的操作,使其具有各種功能,最終的產品就是我們手機裡處理器的樣子了,然後就是測試測試電流、散熱線路、連通性等等的這些功能,把不合格的產品給篩選出來,當然了這個封裝和測試...

  • 精準醫療的MEMS——微流控技術

    精準醫療的MEMS——微流控技術

    微流控技術微流控(microfluidics)是一種精確控制和操控微尺度流體, 以在微奈米尺度空間中對流體進行操控為主要特徵的科學技術,具有將生物、化學等實驗室的基本功能諸如樣品製備、反應、分離和檢測等縮微到一個幾平方釐米晶片上的能力,其基...