光刻機是晶片製造的核心

晶片的生產過程包括晶片研發、晶片製造、晶片封測。其中最難要數晶片製造，晶片製造最核心的是光刻機。

光刻機是晶片製造的核心裝置，光刻機透過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後對映到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

光刻機是中國晶片供應鏈最大短板，完全依賴進口，也是華為晶片能被制裁的主要原因。

在光刻機領域，ASML的技術最為先進，也是全球最大的高階光刻機供應商。

ASML新出2nm、1nm製程的光刻機

根據ASML方面透露，新一代NA EUV光刻機基本上完成設計，預計2022年開始商用，可以生產2nm、1nm的晶片。

到時候，晶片的製造技術會更上一樓，晶片會更小，效能更強。但是，新款光刻機的缺點明顯。

1、體積更大

NA EUV光刻機相比前面幾代光刻機而言，體積更大，高度超過天花板，這意味著NA EUV光刻機的安裝空間需求更大，甚至需要重新定製安裝廠房。這對於臺積電來說，是不是噩耗？

2、NA EUV光刻機售價更高

NA EUV光刻機的售價更高，超過4。5億美元，摺合人民幣約30億元，是EUV光刻機的4倍。這意味著光刻機的投入成本更高，不知道產能會不會因此受到影響。

NA EUV光刻機缺點對誰影響最大？

NA EUV光刻機體積更大、成本更高對臺積電的影響最大。

臺積電是全球最大的晶片製造商，是ASML的最大客戶，也是擁有光刻機最多的製造商，更是對光刻機依賴最嚴重的廠商。

所以，臺積電需要花費鉅額資金來建廠房和購買光刻機。

寫在最後

丟失華為晶片訂單，本來臺積電訂單就劇減，每年損失超過360億元。

再加上三星搶奪了高通和英偉達的晶片訂單，臺積電今年成績不盡人意。

不知道刺客臺積電怎麼想？