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我們知道晶圓上已經塗抹了一層光刻膠，需要我們透過光刻機的特殊光源，將膠水固化，並且一定是按照之前設計好的線路圖，這東西很重要...

根據公告內容顯示，本專案的實施主體為瑞聯新材的全資子公司大荔瑞聯新材料有限責任公司（以下簡稱“大荔瑞聯”），專案選址位於渭南市大荔縣經濟技術開發區，計劃新建五個生產車間及其配套的輔助工程和服務設施，用於OLED昇華前材料及中間體、醫藥中間體...

中國國航：擬定增募資不超過150億元中國國航8月2日晚間公告，公司擬向包括控股股東中航集團在內的不超過35名特定物件發行股票募集資金總額不超過150億元，扣除相關發行費用後用於引進22架飛機專案和補充流動資金...

廣信材料非常看好太陽能光伏行業的發展和其中新材料的發展機會，基於近年來在光伏領域材料的研發，成立了光伏材料事業部，前瞻性佈局配合下游太陽能光伏電池元件廠重點開發光伏感光膠、光伏絕緣膠等多種光伏領域新應用材料，根據下游光伏市場技術革新的需求提...

【嘉勤點評】東方晶源的光刻膠模型最佳化專利，透過計算對比找到對格點依賴誤差影響最大訊號並進行限制，使得標定模型過程中訊號對模型的影響降低，從而提高模型的精度，有效解決了現有技術模型精度不足的問題...

在這個迴圈結束時，一層厚厚的、富含溶劑的光刻膠膜覆蓋在晶圓上，準備好進行後應用烘烤...

光刻機涉及系統整合、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術，是所有半導體制造裝置中技術含量最高的裝置，因此也具備極高的單臺價值量，目前世界上最先進的 ASML EUV光刻機單價達到近一億歐元，可滿足 7nm 製程芯...

（雖然現在最先進的是用等離子蝕刻，但是我們這裡先不說那個，說比較基礎一點兒的原理）所以說製造晶片的基本原理就是利用這兩種物質的性質：在金屬表面覆蓋一層光刻膠，然後用光先把光刻膠侵蝕掉，下一步再用化學物質浸泡，這樣有光刻膠的那部分金屬就不會被...

中國本土企業（如南大光電、晶瑞股份等）在中高階半導體光刻膠（如ArF光刻膠）的技術領域已有所突破，未來中國半導體光刻膠行業勢必將保持快速增長趨勢...

光刻膠指數：廣信材料：公司主營業務是油墨、塗料等光固化領域電子化學品的研發、生產和銷售，公司主要產品有絲網印刷型感光阻焊油墨、LED板用白色感光阻焊油墨、靜電噴塗型感光阻焊油墨、傳統內層線路油墨、LDI專用內層塗布油墨、浸塗型液體感光蝕刻油...

目前雲南大學相關成果也已經發布在了國際相關的期刊上面，這對於國內半導體的發展而言，當然起到了一定的促進作用，如今中國晶片傳來了四個好訊息，這一次光源技術，光刻膠，新材料等等無一落下，這也就意味著國產晶片即將崛起，而未來中國將成為半導體領域之...

一塊晶圓上可以切割出數百個處理器，不過從這裡開始把視野縮小到其中一個上，展示如何製作電晶體等部件...

今天帶給大家的是：晶片產能嚴重告急、進口芯片價格增長20%的原因分析，以及國產光刻膠巨頭“南大光電”的機遇、挑戰...

南大光電：ArF光刻膠已透過下游客戶使用認證 量產在望公司主要從事先進前驅體材料、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導體 材料產品生產、研發和銷售...

λ是入射透鏡的光的波長D是光學儀器透鏡的直徑光的波長越短最小分辨角就越小儀器的分辨能力就越強大也就能夠製造出更小尺寸的元件業界的主流波長是193奈米被稱作DUV目前已經不夠用了這時候ASML13.5奈米EUV的出現了可以實現7奈米以下製程的...

正向：鐳射束經過光路進入被光刻膠覆蓋的光學模式的時候進行光的正向鐳射掃描，每個畫素所含的電訊號反射位置正好填滿鐳射束的有效長度...

根據維基百科的定義，光刻是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然後透過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上...

總之這個問題確實阻礙了這種方法的應用——除了早期45nm、32nm節點的DRAM工藝（結構簡單，重複性高），而且超光雙重曝光的情況幾乎沒有，CPU GPU晶片應該採用的並不多...

在表面露出的矽氮化膜採用磷酸熱溶液溼法刻蝕（wet-etching）後，進行光刻工序，此後，將形成n溝道MOS三極體的部分用光刻膠覆蓋...

光刻是半導體制造關鍵工藝，光刻膠透過曝光顯影實現圖形轉移晶片製造又稱晶圓製造，是透過物理、化學工藝步驟在晶圓表面形成器件，並生成金屬導線將器件相互連線形成積體電路的過程...