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  • 直擊業績會 | 芯源微(688037.SH):前道塗膠顯影裝置在28nm及以上工藝節點的多項關鍵技術方面取得突破

    1.塗膠顯影裝置Off-line、I-line、KrF機臺均實現批次銷售,前道塗膠顯影機新簽訂單規模同比大幅增長,其中I-line、KrF塗膠顯影機獲得了多家頭部晶圓廠的小批次重複訂單,向先進製程產品延伸,將徹底開啟公司在塗膠顯影領域的成長...

  • MC方案|如何快速準確地測定光刻膠的對比度曲線?

    在顯影步驟之後,使用FR-μ探針顯微光譜儀工具在每個正方形上測量剩餘抗蝕劑膜的厚度(圖1)...

  • 每日一題 | 試述泌尿繫結石的常用影像學檢查及各自特點

    每日一題 | 試述泌尿繫結石的常用影像學檢查及各自特點

    4、非增強CT掃描(NCCT)或者CTKUB(Unenhanced CT of the kidneys, ureters and bladder)(推薦)CT檢査解析度較KUB高,可發現1mm的結石,解決了KUB成像的組織重疊問題,不易受腸...

  • 什麼情況下要做逆行腎盂造影檢查

    什麼情況下要做逆行腎盂造影檢查

    逆行腎盂造影系在膀胱鏡的觀察下,將特製的導管經尿道和膀胱插入輸尿管並注入對比劑,使腎盂、腎盞、輸尿管和膀胱顯影的檢查方法...

  • 什麼是蝕刻油墨?絲印油墨和感光藍油的區別和使用方法

    什麼是蝕刻油墨?絲印油墨和感光藍油的區別和使用方法

    絲印型的蝕刻油墨一般為黑色,由於採用網版印刷,對油墨的粘稠度要求會高點,所以稀釋的時候不應該新增太多的稀釋劑,一般建議新增1-5%...

  • 「兒童必讀趣味小知識」洗照片是不是和洗衣服一樣?

    「兒童必讀趣味小知識」洗照片是不是和洗衣服一樣?

    由於這些化學藥品都是液體,以沖洗的方式為膠片顯影,所以被人們形象地稱之為“洗”照片...

  • 身為攝影初學者的你知道什麼是陶瓷攝影嗎

    從玻璃上取下顯影后有影像的乳劑層並在水中移置到瓷器製品上...

  • 熒光自顯影中所使用的X射線片應該與閃爍液的熒光光譜相匹配

    表中所示的放射性強度是在經預閃光的膠片上經過24h曝光後能夠獲得可探測影象(As4s= 0...

  • DNA條帶切去後,對凝膠進行攝影或放射自顯影,可得到永久記錄

    按照方案3的方法,進行DNA樣品和標準參照物的聚丙烯醯胺凝膠電泳,用放射自顯影方法(方案7)或長波式(302nm)紫外燈檢測SYBR染色的凝膠,以確定目的DNA的位置...

  • 富士施樂 XEROR Phaser 3200 MFP不能列印一半黑一般正常,拆機

    xeror Phaser 3200mfp 富士施樂3200MFP 一體機富士施樂 XEROR Phaser 3200 MFP不能列印一半黑一般正常左側一片黑顯影位置議你先換個硒鼓試試,估計是磁錕有問題定影器/定影元件,選配件,顯影器/顯影...

  • 看似簡單的黑色“盒子”卻是鐳射印表機的核心

    看似簡單的黑色“盒子”卻是鐳射印表機的核心

    碳粉透過轉印輥(印表機元件)從成像鼓表面轉印到紙張上,將正電荷施加到紙張的未列印面上,這會將帶負電荷的碳粉從成像鼓吸引到紙張上...

  • 淺談曬版機的使用要點

    淺談曬版機的使用要點

    修版是大多數印刷廠家尤其用版量較大的報社、書刊印刷廠所不願接受的,他們一天幾個人在較短的時間內要曬制幾百張版,任務確實繁重,如果再修版,那就更加大了工作量,但PS版製造所針對的膠片是單一的片張,不是拼版或複合拼版的軟片,但現在大多數廠家,尤...

  • 診斷腎、輸尿管結石需要做哪些檢查?

    診斷腎、輸尿管結石需要做哪些檢查?

    腎、輸尿管結石特殊檢查B型超聲檢查對於腎結石,超聲診斷的應用極為廣泛,目前可檢測出3毫米的結石,尤其是對於透X線的純尿酸結石,B超有其特殊的優越性...

  • 規範化對待互易律失效

    如發現上述問題,你就應該檢驗並調整你的某些操作,使它回覆到你的既定規範假如你發現稍許增加印相的曝光會得到更好的畫面效果,不妨採用ISO感光指數低一擋的膠片...

  • 光刻作為製造半導體微圖形工藝核心,國產光刻膠發展現新機?

    光刻是半導體制造關鍵工藝,光刻膠透過曝光顯影實現圖形轉移晶片製造又稱晶圓製造,是透過物理、化學工藝步驟在晶圓表面形成器件,並生成金屬導線將器件相互連線形成積體電路的過程...

  • ctp衝版水迴圈系統 出水水質穩定達標

    ctp衝版水迴圈系統 出水水質穩定達標

    極大減少顯影膠輥、毛刷結晶,避免版面物理劃傷,減少版材故障造成的紙張、油墨、人工等停機損失,減少衝版機洗機次數,提高生產效率...

  • 晶片光刻全過程(清洗預烘塗覆前烘曝光顯影刻蝕去除)

    晶片光刻全過程(清洗預烘塗覆前烘曝光顯影刻蝕去除)

    所謂光刻,根據維基百科的定義,這是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構,然後透過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上...

  • 還在為顯影工藝苦惱?把握好這幾個要點就夠了

    還在為顯影工藝苦惱?把握好這幾個要點就夠了

    要是顯出點離顯影段的入口處太近的話,顯影液長時間與幹膜反應,很有可能會出現發毛,無光澤的現象...

  • 攝影的將就和講究——回憶點兒黑白往事

    攝影的將就和講究——回憶點兒黑白往事

    而那些大攝影師對暗房的要求是非常高的,不是你製作曝光準確、反差適中、層次豐富、影調怡人的照片就可以了,他們會根據拍攝的內容,調整反差和影調,對區域性加光或者遮擋,讓照片明暗對比更符合他們的拍攝意圖,就好比音樂家一樣,他對整部交響樂的各個聲部...

  • 半導體的光刻工藝全過程,技術講解

    半導體的光刻工藝全過程,技術講解

    光刻工藝過程一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序...